케미칼 장비

Chemical Equipment

Wafer Cleaning System

본 장비는 복수의 처리조(Process Bath)와 각 처리조 사이에 수세조(QDR, QD, F/R)가 구성되어 있고, 웨이퍼(Wafer) 및 카세트(Cassette) 이송을 수행하는 자동 반송 로봇으로 구성되어 있습니다. 화학액(Chemical)을 통하여 반도체 웨이퍼의 세정, 식각(Etching) 등을 수행하는 배치식(Wet Bench) 세정 장비입니다.

특장점

• 우수한 공정 성능: 다양한 공정 레시피 적용 가능

• 유지보수 편의성: 정비 및 관리 효율성을 극대화한 장비 구조

• 사용자 친화적 인터페이스: 작업자 편의를 고려한 직관적인 HMI/UI 환경

적용 분야

  • RCA 세정 공정: 유기물, 산화막, 이온성 오염 물질을 제거하는 반도체 표준 화학 세정 기술
  • 표면 박막 및 오염 물질 정밀 제거: 파티클, 질화막, 산화막 및 폴리머 잔류물의 고정밀 선택적 제거
  • 감광액(PR) 스트립 스테이션: 노광 공정 후 잔류 포토레지스트를 안정적으로 제거하는 고성능 박리 및 세정 공정

주요 제품

  • Auto&Semi Auto Wet Station

  • Dryer